序号 | 技术要求内容 | 评分等级 | 是否星号条款 | 是否需要附件说明 |
1 |
*光刻精度:
至少支持两个光刻镜头:
光刻镜头1:最小线宽1.2 µm,线宽均匀性:工作距离≥19 mm,景深:2um;
光刻镜头2:最小线宽0.8 µm,线宽均匀性:工作距离≥12 mm,景深:1.2um
预留空间样品厚度:≥8 mm
| 非常重要 | 是 | 是 |
2 |
▲具备交互式套刻指引功能:可实时光刻图形的预览,验收时可软件演示
| 非常重要 | 否 | 是 |
3 |
▲具备图像识别对焦功能
| 非常重要 | 否 | 是 |
4 |
可实现光刻镜头电动切换
| 重要
| 否 | 是 |
5 |
曝光波长:LED 405 nm,光源处的功率≥10W,寿命≥10000h.(
| 重要
| 否 | 是 |
6 |
数字掩模板分辨率:≥1920 * 1080,微镜尺寸≤7.6 um
| 重要
| 否 | 是 |
7 |
显微观测:可实现显微观测且不会引起光刻胶变性
| 重要
| 否 | 是 |
8 |
▲样品台尺寸:≥130 mm * 130 mm,有效曝光面积≥125 mm*125 mm
| 非常重要 | 否 | 是 |
9 |
可实现样品旋转
| 重要
| 否 | 是 |
10 |
样品吸附:真空吸附样品,气体流量:7 L/min,真空度:30 kPa
| 重要
| 否 | 是 |
11 |
画图软件:可实现阵列画图、套刻画图
| 重要
| 否 | 是 |
12 |
▲设备软件:
原位光绘功能:可实现原位绘制光刻图形
物像绑定功能:可实现样品图形和光刻图形绑定,实时对应
成像拼接功能:可实现样品图形的大范围拼接,实现大范围样品查找
畸变矫正功能:可实现光刻图形算法畸变矫正,实现精准套刻
| 非常重要 | 否 | 是 |
13 |
运动台步进精度:50 nm、重复定位精:±100 nm
| 重要
| 否 | 是 |
14 |
无掩膜紫外光刻机,1台
| 重要
| 否 | 是 |